Tehnička razmjena: Rad i čišćenje JMFILTEC sistema ravnih ploča membrane od silicijum karbida

Dec 08, 2025

Ostavi poruku

Tehnologija ravnih membrana od silicijum karbida spada u kategoriju potopljene ultrafiltracije. Njegova osnovna primjena uključuje direktno uranjanje modula membranske membrane od silicijum-karbida u rezervoar za sirovu ili otpadnu vodu koji se tretira. Pogoni vanjskim napajanjem (obično negativnim tlakom koji obezbjeđuje pumpa za permeat ili sifon), voda i čestice manje od pore membrane prodiru kroz sloj membrane, dok se čestice veće od pora zadržavaju, čime se postiže odvajanje čvrste-tečnosti.

 

Ultrafiltracijski procesi čišćenja dijele se na fizičko čišćenje i kemijsko čišćenje. Fizičko čišćenje uključuje procese povratnog ispiranja, prskanja i aeracije. Povratno ispiranje koristi obrnuti tok vode (koji ulazi sa permeatnog kraja membranskog modula i prožima se kroz pore membrane) kako bi se uklonili duboko-ukočeni i površinski zagađivači iz pora membrane. Procesi prskanja i aeracije koriste hidraulički udar ili smetnje plina kako bi pomogli u uklanjanju nečistoća koje su prianjale na površinu membrane. Hemijsko čišćenje koristi hemijska sredstva za uklanjanje koloida, organske materije, anorganskih soli i drugih zagađivača formiranih na i unutar ultrafiltracione membrane, uključujući čišćenje hemijskim održavanjem (CEB) i hemijsko obnavljanje (CIP).

 

01 Silicijum karbid keramički plosnati membranski sistemi Radni režimi

 

 

Načini rada sistema ultrafiltracije membranske membrane od silicijum karbida su sljedeći:

news-1540-645

Proces membranske filtracije uključuje sljedeće korake:

Voda proizvoda: Korak vode za proizvod uklanja zagađivače kao što su metalni oksidi, suspendirane čvrste tvari i bakterije;

Povratno ispiranje: Periodično povratno ispiranje je potrebno da bi se uklonio sloj filterskog kolača sa površine membrane;

Prskanje: Voda se raspršuje direktno na vrh filterskog tornja, poboljšavajući povratno pranje i efikasnost čišćenja;

Aeracija: Vazduh dolazi sa dna filterskog tornja, poboljšavajući proces povratnog pranja i čišćenja;

Hemijska cirkulacija: Uklanja prljavštinu ili kamenac sa unutrašnje strane membranskih listova;

Hemijsko čišćenje: Uklanja prljavštinu ili kamenac sa vanjske strane membrane.

 

02 Silicijum karbid keramički plosnati membranski sistem Operativni proces

 

 

1. Ubrizgavanje vode i ventilacija zraka

Otvorite gornji ventil za odzračivanje i ulazni ventil da unesete sirovu vodu u membranski rezervoar, ispuštajući vazduh iz sistema.

Vrijeme pokretanja: Sistem se prvi put pokreće ili nakon što se sistem membrane sa ravnim pločama od silicijum karbida isprazni od tečnosti.

news-1548-636

2. Filtracija

Filtracija koristi pumpu za stvaranje negativnog tlaka (vakuma) unutar membrane. Ova razlika pritiska pokreće molekule vode kroz membranu, omogućavajući pročišćenoj vodi da teče sa strane permeata, dok se kontaminanti zadržavaju.

news-1542-645

3. Fizičko čišćenje

Fizičko čišćenje se sastoji od dvije faze. Prva faza koristi pumpe za povratno ispiranje i uređaje za aeraciju za povratno ispiranje i aeraciju kako bi se riješio utjecaj sloja filterskog kolača na performanse membranskog sistema. Druga faza, koja se izvodi prije kemijskog čišćenja, uključuje pražnjenje membranskog spremnika i korištenje postupka čišćenja sprejom u kombinaciji s povratnim ispiranjem i aeracijom za temeljno fizičko čišćenje membranskih elemenata, stvarajući povoljne uvjete za kemijsko čišćenje.

① Povratno pranje i aeracija

news-1543-621

② Pražnjenje i aeracija membranskog rezervoara

news-1549-636

③ Prskanje i povratno pranje i aeracija i pražnjenje

news-1543-638

4. Hemijsko čišćenje

Hemijsko čišćenje je podijeljeno na hemijsko čišćenje (CEB) i hemijsko čišćenje na{0}} mjestu (CIP).

① Čišćenje hemijskog održavanja (CEB)

Čišćenje hemijskog održavanja (CEB) uključuje dodavanje hemikalija u vodu za povratno ispiranje kako bi se poboljšao učinak čišćenja.

news-1549-640

② Hemijsko čišćenje na{0}}m mjestu (CIP)

Kada gornje metode čišćenja ne uspostave tok ili tlak permeata dostigne vrijednost CIP čišćenja (-40 kPa), mora se započeti kemijsko čišćenje na mjestu (CIP). Ovaj proces uključuje uranjanje modula membrane ravnog lista od silicijum karbida u hemijsko sredstvo za čišćenje kako bi se u potpunosti rastvorili i uklonili tvrdokorni zagađivači sa površine membrane i pora, čime se vraća performanse membrane.

news-1544-629

 

03 Često korištena sredstva za čišćenje i zahtjevi za kvalitetom vode za čišćenje za plosnate membrane od silicijum karbida

 

 

① Često korištena sredstva za čišćenje

Sljedeća tabela navodi najčešće korištena hemijska sredstva za čišćenje:

Agent Type

Često korišteni agent

Oksidirajući agens

natrijum hipohlorit (NaOCl)

Alkalni agens

natrijum hidroksid (NaOH)

Kiseli agens

Hlorovodonična kiselina (HCl)/citrat

Napomena: Specifične doze sredstva mogu se podesiti u skladu sa stvarnim uslovima na lokaciji.

 

② Zahtjevi za kvalitetu vode za čišćenje

Voda za čišćenje koja se koristi za rastvaranje hemikalija za čišćenje može biti UF permeat, čista voda ili drugi relativno čisti izvori vode. Moraju biti ispunjeni sljedeći uslovi:

Stavka

Parametar

Total Hardness

<80ppm (carbonate content)

Indeks bojenja (SDI)

<3

Totalna organska materija

<8ppm

Iron Ions

<0.5ppm

Silicijum joni

<5ppm

Napomena: Specifični rad i kvalitet vode za čišćenje mogu se podesiti u skladu sa stvarnim uslovima na lokaciji.

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasako imate bilo kakvo pitanje

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca ispod. Naš stručnjak će vas uskoro kontaktirati.

Kontaktirajte sada!